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本設備專為先進封裝製程設計,適用於 Fan-Out、2.5D / 3D IC、TSV 及 Hybrid Bonding 製程,提供高
精度、高良率之晶圓薄化解決方案。
✔ 支援 30 µm 量產級薄化 ✔ 高精度 TTV 控制(±1 µm) ✔ 低破片率設計
✔ 適用先進封裝製程 ✔ 高性價比與快速導入能力