光罩

光罩(Photomask) 是積體電路(IC) 製造中的關鍵元件，用於將設計圖案轉移到矽晶圓上，形成電路。 光罩製作涉及複雜的工藝，包括圖案設計、曝光、顯影、蝕刻等步驟，確保光罩上的圖案精確地對應到設計，並且滿足後續蝕刻製程的需求。

 

原理上，其過程和傳統相片的製造過程非常相似，以光罩當作底片，在黃光機台的曝光下，將光罩上面刻印的設計圖樣，反覆曝光在晶圓上。 IC製造的步驟為：薄膜→光阻→顯影→蝕刻→光阻去除，然後不斷的迴圈數十次，每次的迴圈，一旦需要曝光的製程，就需要光罩置入曝光機台來定義曝光區域的圖形。