曝光機
全自動曝光機
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED.
● 曝光光源口徑: 4",6",8",10",12"圓,或4",6",8"方
● 波長: 汞燈NUV(365nm, 405nm, 435nm), UV LED(365nm, 405nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度(依出光口徑)
● 均勻度: +-3~5% (選購+-2%)
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器(選購迴授型)
自動對準台:
● 光罩真空吸盤: 上吸式或下吸式4", 5", 6", 9"
● 晶圓真空吸盤: 2", 4", 6",7" ,9”
● 具光罩晶圓水平校正功能
● 曝光模式可選接觸式與近接式,
● X,Y,T軸馬達調整10mm.解析度1um
● Z軸馬達調整5mm,解析度1um
● 光罩前後傳送以方便取放
● 自動對準動作依自動對準軟體計算結果由PLC控制調整
影像系統:
採用固定倍率鏡頭, 分別配置於預對位, 進片粗對位, 精密對位三位置
CCD影像系統擷取影像至PC,做影像自動對位.
影像打光有LED同軸光或環形光
預對轉出台:
進片由小手臂送到預對台作粗定位,曝光後由小手臂送到轉接台以出片
傳送小手臂與轉盤:
5支小手臂做晶圓傳送,三吸盤轉台結合對準台可做快速對位與進出片
輸入和輸出卡匣台:
輸入卡匣台由手臂將基板傳至預對台.曝光後的基板,由轉接台傳至輸出卡匣台之晶舟.未完成之基本移至退片台. 卡匣台可做多卡匣設計.
操作系統:
PLC及人機界面控制系統和工業電腦之自動對準軟體,作基板輸出入及對準曝光程序自動操作,
機座:
具四個防震氣墊,具調整腳,移動輪,鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電板包覆機台,開數個操作與維修門窗及視窗,
傳送小手臂與轉盤:
5支小手臂做晶圓傳送,三吸盤轉台結合對準台可做快速對位與進出片
性能:
產量依對位精度及曝光時間而不同,高產機型最快可達每分鐘5片以上,
採接觸曝光圖形解析最佳可達1~2um
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在5~2um
半自動曝光機
半自動光罩對準曝光機操作簡單,性能可靠,適合量產線使用
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED燈
● 曝光光源尺寸:4",6",8",10",12"圓,或4",6",8"方
● 波長: 汞燈NUV(365nm, 405nm, 435nm), UV LED(365nm, 405nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度, (依出光口徑)
● 均勻度: +-3~5% (選購+-2%)
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器(選購迴授型)
曝光對準台:
● 光罩真空吸盤: 上吸式或下吸式4", 5", 6", 7", 9"
● 晶圓真空Chuck: 2", 4", 6",8"圓形或方形
● 具光罩晶圓平行校正功能
● 曝光模式有真空接觸,軟接觸與近接式,可調整真空吸附力大小
● X,Y,T軸手調行程10mm.調整解析度1um
● Z軸手調行程3mm,千分表解析度1um,(選配電動調整)
● 光罩吸盤自動開啟以取放基板
影像系統:
採用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準倍率50X-300X,
可選配多種倍率, CCD影像系統, LCD螢幕顯示
LED同軸光打光,( 選配環形光)
觀測的兩點間距4cm-15cm , (選配轉折鏡到更小間距)
可選配鏡頭掃描台可快速移動鏡頭,
可選配背面對準影像系統
機座:
具四個防震氣墊,具調整腳,移動輪,機架及盤面,大鋁板機座, 左右移動線性滑軌, CDA之調整,電源輸出入等.
操作系統:
PLC半自動操作系統, (選配人機界面).
可切換手動及半自動模式
操作流程:置基板, (按鍵)上光罩關閉,鏡頭移入做對準動作, (按鍵)選曝光模式, (按鍵)鏡頭移出燈源移入曝光,燈源移出,光罩吸盤開啟,取基板.
曝光快門控制: 計時器控制0.1-999秒, (選配能量控制:0.1~9000mJ/cm2).
性能:
產量依對位精度及曝光時間及操作員熟練度而不同最快可達每分鐘曝三片
採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um(正光阻厚1um)採近接式曝光最佳約在2~5um
雙面對準曝光機
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED.
● 曝光光源口徑: 4",6",8",10",12"圓,或4",6",8"方
● 波長: 汞燈NUV(350nm~450nm), UV LED(365nm, 405nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度(依出光口徑)
● 均勻度: +-3%
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器(選購迴授型)
雙面對準台:
● 光罩真空吸盤: 4”, 5”, 7”, 9”
● 晶圓真空吸盤: 2”,3”, 4”, 6” 8”
● 晶圓真空吸盤開孔以供背對準用.
● 具光罩晶圓平行面校正功能
● 曝光模式有真空接觸式,接觸式與近接式,
● X,Y軸調整行程:12mm.調整解析度1um.
● 旋轉軸調整角度:5度,調整解析0.001度,
● Z軸調整行程:3mm調整解析度1um.千分表顯示.
● 置放晶片可選晶圓推拉盤式或光罩上開式.
上對準影像系統:
採用可變倍率鏡頭,多種倍率組合
雙CCD影像系統, LCD螢幕
LED同軸打光或環形打光
鏡頭前後左右上下微調約20mm,
可選配快速掃描台,
影像解析度最佳可達1um.
背對準影像系統:
可採固定倍率鏡頭
雙CCD影像系統, 切換使用上影像LCD螢幕
LED同軸打光
背對準影像處理軟體
鏡頭前後左右上下微調約10mm,
影像解析度最佳可達1um.
操作系統:
PLC半自動操作系統, (選配人機界面).
可切換手動及半自動模式
操作流程:置基板, (按鍵)上光罩關閉,鏡頭移入做對準動作, (按鍵)選曝光模式, (按鍵)鏡頭移出燈源移入曝光,燈源移出,光罩吸盤開啟,取基板.
曝光快門控制: 計時器控制0.1-999秒, (選配能量控制:0.1~9000mJ/cm2).
防震機座:
大鋁板機座按裝有四個防震氣墊, 機架具調整腳,移動輪,CDA之輸入調整,真空輸入,電源輸出入.
雙面曝光曝光機
半自動雙面曝光曝光機,操作簡單,性能可靠,雙倍產能,適合量產線使用
上下曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED
● 燈曝光光源尺寸:4",6",8",10",12"圓,或4",6",8"方
● 波長: 汞燈NUV(365nm, 405nm, 435nm), UV LED(365nm, 405nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度(依出光口徑)
● 均勻度: +-3~5% (選購+-2%)
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器(選購迴授型)
雙面曝光對準台:
● 上及下光罩真空吸盤: 4", 5", 6", 7",9"
● 基板固定夾: 2", 4", 6",8"
● 下光罩可對上光罩手動調整平行面
● 曝光模式為接觸式
● 光罩對光罩對準:X,Y,Y軸調整10mm. 細牙螺絲調整
● 上光罩對基板對準:XYΘ調整10mm,分厘卡頭調整
● 上光罩開啟以取放基板,基板對角以固定夾固定於兩光罩之間
影像系統:
採用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準倍率50X-300X,
CCD影像系統,2個LCD螢幕
打光有LED同軸光,背光或環形光
可加裝鏡頭掃描台以快速移動鏡頭,
可加裝光罩監控鏡頭以監控上下光罩位移,
機座:
具四個防震氣墊,具調整腳,移動輪,不鏽鋼支架及盤面,鋁合金桌面及肋板,CDA之調整,真空之顯示,電源輸出入等.
操作系統:
採PLC半自動操作系統,
可切換手動及自動模式
操作流程:置基板, (按鍵)上光罩關閉,鏡頭移入做對準動作, (按鍵)上光罩下壓,鏡頭移出燈源移入曝光
(計時),燈源移出取,上光罩開啟,取基板.
曝光計時器時間設定:0.1-999秒
性能:
產量依對位精度,曝光時間及操作員熟練度而不同,最快可達每分鐘曝三片
全手動光罩曝光機
全手動光罩對準曝光機適合實驗室研究使用,或量產前製程開發使用
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED燈
● 曝光光源尺寸:4",6",8",10",12",圓或方,
● 波長:汞燈NUV(350nm~450nm), UV LED(365nm, 405nm,435nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度(依出光口徑)
● 均勻度: +-3~5%
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器
曝光台:
● 光罩真空吸盤: 上吸式或下吸式4", 5", 6", 7", 9"
● 晶圓真空吸盤: 2", 4", 5", 6",8" , 圓或方,
● 具光罩晶圓水平校正功能
● 曝光模式有真空接觸式與近接式,可調整真空吸附力大小
● X,Y軸調整10mm.調整靈敏度最佳1um
● Z軸可調整3mm, 千分表解析度1um
● 上光罩以手開啟以取放基板
影像系統:
可變倍率鏡頭,螢幕倍率約80X-500X,
影像解析度最佳1.5um
視訊相機, LCD螢幕
打光有LED同軸光或環形光
觀測的兩點間距4cm-15cm ,(選購轉折鏡到更小間距)
選購鏡頭掃描台以快速移動鏡頭,
選購背面對準機型
機座:
大鋁板機座, 不鏽鋼支架, 具四個防震氣墊,具調整腳,移動輪, CDA輸入調整,真空輸入,電源輸出入等.
操作系統:
全手動操作系統,每一動作均需手動操作,
操作流程: 置基板,手動關下光罩吸盤,鏡頭移入做對準動作,chuck上移至曝光位置,鏡頭移出燈源移入曝光(計時),燈源移出,光罩吸盤開啟,取出基板.
曝光計時器時間設定:0.1-999秒
選購能量曝光
性能:
採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內(正光阻厚1um)
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在5~2um
桌上型對準曝光機
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W or 500W ,或UV LED燈
● 曝光光源尺寸: :4", 5" ,6" or 8"
● 波長範圍: NUV, I-line強度: 約10~25mW/cm2@6”
● 均勻度: +-5%以內, 平行角: ±2.5°
● 電源供應器一台
● 曝光控制計時器:0.1~999.9秒 一台
● 附高壓汞燈一支, 或UV LED燈組一個
曝光對準台:
● 光罩真空吸盤: 4”,5"或 6”下吸式
● 晶圓真空吸盤: 破片,2”,3" ,4" 或5”
● 具光罩與晶圓平行面校正真空球座
● 晶圓真空吸盤可前後左右調整12mm,調整靈敏度2um
● 旋轉調整5度, 調整靈敏度0.001度
● Z軸可調整約3mm, 調整靈敏度1um.
● Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距,解析度1um
Z軸可設定對準與曝光兩種間隙
可調整接觸真空吸附力大小
曝光模式有Vacuum contact, Soft contact, Proximity
人工置放晶片與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤以手開啟
影像系統:
可變倍率鏡頭, 視訊相機, LCD螢幕, LED打光源各一組,或兩組
影像系統總影像倍率50X-300X.
影像解析度最佳1.5um
鏡頭位置調整,可前後左右上下微調約20mm,
單鏡頭選配快速掃描台,可快速移動鏡頭,前後左右移動約10cm
機座:
桌上型大底板機座,具調整腳
操作系統:
採全手動撥鈕操作系統,以手動控制面板操作
操作項目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換
光罩與晶圓平行面校正,真空接觸之切換與真空值調整
Z軸量表的歸零,鏡頭與曝光源左右交替移至對準台上方,並有安全互鎖功能
性能:
採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um, 近接曝光依光罩與晶圓間隙最佳可達5~2um
簡易手動曝光機
曝光燈源:
● 曝光源: 汞燈350W,500W,1000W ,或UV LED燈
● 曝光光源尺寸:4",6",8",10",12",圓或方,
● 波長:汞燈NUV(350nm~450nm), UV LED(365nm, 405nm,435nm)
● 光源平行半角:1.5~2.5度(依出光口徑)
● 均勻度: +-3~5%
● 附高壓汞燈泡,或UV LED燈組及電源供應器
曝光台:
● 光罩真空吸盤: 4”,5”,6”,7”,9” (選項)
● 晶圓或基板真空吸盤: 2”,4”,5”,6” ,8”,12”(選項)
● 具光罩與晶圓或基板平行面校正功能
● Z軸可手動調整約3mm, 調整解析度1um.
● Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距
● 曝光模式有Vacuum contact, Soft contact, Proximity
● 人工置放晶片或基板與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤向上開啟
影像系統:
無
機座:
大鋁板機座, 不鏽鋼機架, 四個防震氣墊,具調整腳,移動輪, CDA輸入調整,真空輸入,電源輸出入等.
操作系統:
採全手動撥鈕操作系統,以手動控制面板操作
操作項目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換光罩與晶圓平行面校正,真空接觸之切換與真空值調整, Z軸的歸零,曝光源左右移至對準台上方,
快門控制器: 計時控制,:0.1~999.9秒,
能量控制: 0.1~9999.9mJ/cm2(選項).
性能:
若採接觸曝光, I-line光阻1um厚度, 圖形解析最佳可達1um.
近接曝光之線寬依間隙設定最佳可達5~2um,